浙江大學余杭量子研究院研發的中國之精 100kV 電子束（EBL）曝光機「羲之」，

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，曝光最快今年第三季展開試產；如今浙江大學又帶來 EBL 新設備
 。機羲近代妈公司哪家好「羲之」定位精度可達 0.6 奈米 ，【代妈公司】度逼接近 ASML High-NA EUV 標準  。難量生產效率遠低於 EUV 系統。代妈机构哪家好並在華為東莞工廠測試，中國正積極尋找本土化解方 。但由於採用「逐點書寫」（point-by-point writing）──電子束必須像筆逐點描繪電路圖案──因此製作一片晶圓需要更長時間 ，试管代妈机构哪家好至於這些努力能否真正轉化為實質技術突破 ，同時售價低於國際平均水準 ，【代妈公司】

• China Reportedly Develops Lithography Machine With Precision Rivalling ASML’s High-NA EUV,代妈25万到30万起 But Limited to Research Applications, Not Mass Production

（首圖來源：中國杭州人民政府）

延伸閱讀：

• 中媒 ：中國推出首款國產電子束蝕刻機「羲之」

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為了突破 EUV 技術瓶頸 ，哈爾濱團隊之前研發出能產生 13.5 奈米 EUV 光的【代妈招聘】 LDP 光源，

外媒報導，